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　　利用磁控濺射技術(shù)生產(chǎn)各類光學(xué)電子薄膜。

　　磁控濺射技術(shù)：磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。

　　其具有增透、吸收、截止、分光、反射、濾光、干涉、保護、防水防污、防靜電、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣、耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾和復(fù)合等功能，并能夠提高產(chǎn)品質(zhì)量、環(huán)保、節(jié)能、延長產(chǎn)品壽命、改善原有性能等。

　　理論上利用射頻磁控濺射可以濺射沉積任何材料。